2025
06-02
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不靠EUV光刻机也能生产5nm：3nm也在进行中 NEW
快科技6月2日消则，之前我们说过，不用EUV光刻机也能做出5nm。前段时间，世界上就有一种“特殊”5nm的消息传出。这种5nm采用了完全不一样的技术路线，避开了EUV光刻机的依赖，采用一种步进扫描光刻机，通过多重曝光实现5nm线宽。那没有EUV光刻机，3nm有戏吗？最新报道指出，还是这家5nm品牌，最近已经打算推出3nm工艺制程技术的AP（应用处理器），目标是在2025年问世。该芯片采用全环绕栅极（Gate-All-Around，GAA）技术能有效降低电流泄漏并提升性能，是台...
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快科技2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台，正在紧张地研究测试中。Intel资深首席工程师Steve Carson透露，迄今为止，两台EUV光刻机已经生产了3万块晶圆，当然不算很多，但别忘了这只是测试和研究使用的，并非商用量产，足以证明Intel对于新光刻机是多么的重视。Steve Carso...